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Browse by Subject 마그네트론 스퍼터링

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1
(A) study on the micro-structural properties of N-incorporated ZnO thin films for FBAR devices = 박막 벌크 음향 공진기 소자를 위한 질소 원자가 주입된 산화 아연 박막의 미세 구조 특성 연구link

Lee, Eun-Ju; 이은주; et al, 한국과학기술원, 2011

2
(A) study on the micro-structural properties of N-incorporated ZnO thin films for FBAR devices = 박막 벌크 음향 공진기 소자를 위한 질소 원자가 주입된 산화 아연 박막의 미세 구조 특성 연구link

Lee, Eun-Ju; 이은주; et al, 한국과학기술원, 2011

3
D.C. 마그네트론 반응성 스퍼터링법으로 증착한 ITO박막에 있어서 고유응력, 배향성 그리고 밀도가 비저항에 미치는 영향 = Effect of density, intrinsic stress and crystallographic orientation on resistivity of ITO thin films deposited by D.C. magnetron reactive sputteringlink

이정일; Lee, Jung-Il; et al, 한국과학기술원, 2000

4
RF magnetron sputtering 증착공정에서 플라즈마 특성과 비정질 $CN_x$ 박막성질의 상관관계에 관한 연구 = A study on the correlation between the plasma and amorphous $CN_x$ film characteristics using RF magnetron sputteringlink

노기민; Roh, Ki-Min; et al, 한국과학기술원, 2011

5
요동자석 스퍼터링 시스템에서의 타겟식각에 관한 연구 = Study on target erosion in rocking magnet sputtering systemlink

이도선; Lee, Do-Sun; et al, 한국과학기술원, 2004

6
펄스 마그테트론 스퍼터링 소스의 플라즈마 특성과 증착율에 대한 연구 = Characteristics of plasma and deposition rate in pulsed-DC magnetron sputtering sourcelink

인정환; In, Jeong-hwan; et al, 한국과학기술원, 2009

7
평면 마그네트론 스퍼터링 시스템에서의 타겟 효율 향상을 위한 연구 = Enhancement of target utilization in a planar magnetron sputtering systemlink

서태원; Seo, Tae-Won; et al, 한국과학기술원, 2004

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