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Browse by Subject 리소그라피

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1
Development of 3-dimensional nanopatterning technology with ultra-high resolution and its applications for electrical/optical devices = 초고분해능을 갖는 3차원 나노패터닝 기술 개발과 나노패턴을 이용한 전기적/광학적 응용연구link

Jeon, Hwan-Jin; 전환진; et al, 한국과학기술원, 2013

2
Molecular and polymeric resists for deep UV lithography = Deep UV 리소그라피용 분자 및 고분자 레지스트에 관한 연구link

Ganesan, Ramakrishnan; 가네산, 라마크리시난; et al, 한국과학기술원, 2006

3
New precursor method for conducting poly(p-phenylenevinylene)s = 새로운 전구체 방법에 의한 전도성 폴리(p-페닐렌비닐렌)의 합성link

Lee, Soung-Ho; 이성호; Shim, Hong-Ku; Cho, I-Whan; et al, 한국과학기술원, 1996

4
Non-shrinkable and nanomolecular resists for DUV lithography = 비수축성 레지스트와 나노분자 레지스트에 관한 연구link

Oh, Tae-Hwan; 오태환; et al, 한국과학기술원, 2006

5
Physical design and mask synthesis for directed self-assembly lithography = 직접 자기조립 리소그라피를 위한 회로 설계 및 마스크 합성 연구link

Shim, Seongbo; 심성보; et al, 한국과학기술원, 2016

6
Polymeric and molecular resists for short wavelength lithography = 단파장 리소그라피용 고분자 및 분자 레지스트link

Yun, Hyo-Jin; 윤효진; et al, 한국과학기술원, 2002

7
Synthesis of copolymers with diazo groups and their application as DUV resists = 다이아조기를 포함하는 고분자의 합성과 레지스트로서의 응용link

Kim, Kyoung-Seon; 김경선; et al, 한국과학기술원, 2005

8
Synthesis of norbornene copolymers with β-keto ester groups and their application as photoresists = 베타-케토 에스테르기를 노르보넨 측쇄에 함유하는 공중합체의 합성과 포토레지스트로서의 응용link

Kim, Kyoung-Seon; 김경선; et al, 한국과학기술원, 2001

9
마스크가 필요없는 노광 기술을 위한 대용량 폴리곤의 래스터화 = Rasterization of massive polygons for maskless lithographylink

신용철; Shin, Yong-Cheol; et al, 한국과학기술원, 2009

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