Sub-um 접촉 구멍 형성을 위한 시간 변조 RIE 플라즈마 식각Time-modulated RIE plasma etching for the patterning of Sub-um contact holes
- Advisors
- 전덕영researcher; Jeon, Duk-Youngresearcher
- Description
- 한국과학기술원 : 신소재공학과,
- Publisher
- 한국과학기술원
- Issue Date
- 1996
- Identifier
- 107106/325007 / 000947004
- Language
- kor
- Description
학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 신소재공학과, 1996.2, [ x, 76 p. ]
- Keywords
반응성 이온 식각; 시간 변조; Damage; RF Power; Time modulation; Continuous wave; RIE etching; 연속파; 라디오파 전력; 결함
- Appears in Collection
- MS-Theses_Master(석사논문)
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