Cycle-CVD법을 이용한 tantalum oxide 원자층 단위 증착 및 특성에 관한 연구 = A study on atomic layer deposition and film characteristics of tantalum oxide using cycle-CVD

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1. $Ta(OC_2H_5)_5$와 $NH_3$를 이용하여 Cycle-CVD법으로 tantalum oxide를 증착하였다. 1) 250, 265℃에서 $Ta(OC_2H_5)_5$ : Ar : $NH_3$ : Ar의 sequence에서 $Ta(OC_2H_5)_5$ 공급시간을 변화시켰을 때, 20초 이상에서 cycle 당 두께가 saturation 되었다. 2) Ar purge 시간을 변화시켰을 때 박막의 cycle 당 두께는 변함이 없었다. 3) 기판 온도 250 ~ 265℃에서, 박막의 증착 기구는 Atomic Layer Deposition(ALD)였다. 4)265℃에서 $Ta(OC_2H_5)_5$ : Ar : $NH_3$ : Ar = 20sec : 5sec : 5sec : 5sec의 sequence로 증착시 cycle 당 두께는 1.7 Å이었다. 2. Annealing 전 후의 박막의 특성 변화는 다음과 같았다. 1) Annealing 전의 누설 전류 기구는 Space-Charge-Limited conduction으로서 current density J는 electric field E의 제곱에 비례하였다. Annealing 후 누설 전류 기구는 hopping conduction으로 current density J는 electric field E에 비례하였다. 2) Annealing 후 누설 전류 기구는 hopping conduction으로 current density J는 electric field E에 비례하였다. Annealing 처리후 누설전류기구가 Space - Charge - Limited conduction에서 hopping conduction으로 바뀐 것은 annealing 처리시 불순물 감소, O vacancy 보수등의 박막 내부의 charge 감소이다. 3) Annealing 처리는 annealing으로 인한 불순물 감소로 인한 누설 전류 감소와 결정화로 인한 결정입계 누설 전류 증가의 상충되는 효과를 가지며, 박막의 두께에 따라서 최적의 효과를 얻을 수 있는 annealing온도가 결정된다. As-dep 박막의 C 5at%, N 12at%의 함유량에서 900℃ annealing 후 C 4at%, N 3at%로 감소하였다. 두께 150 Å의 tantalum oxide 박막의 경우, annealing 온도가 800℃였을 때 누설 전류 특성이 가장 좋았다. 4) 265℃에서 cycle-CVD법으로 증착된 박막의 유전 상수값 $ε_r$은 annealing 전 11.8, annealing 후 13.3로, annealing 후 증가하였다.
Advisors
강상원researcherKang, Sang-Wonresearcher
Description
한국과학기술원 : 재료공학과,
Publisher
한국과학기술원
Issue Date
1998
Identifier
133552/325007 / 000963326
Language
kor
Description

학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 재료공학과, 1998.2, [ iv, 78 p. ]

Keywords

누설전류; 원자층 단위 증착; 탄탈륨 산화물; Cycle-CVD; 후열처리특성; Annealing; Leakage current; ALD; $Ta_2O_5$; Cycle-CVD

URI
http://hdl.handle.net/10203/50681
Link
http://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=133552&flag=dissertation
Appears in Collection
MS-Theses_Master(석사논문)
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