박막제조장치

Abstract

반응성 스퍼터링 증착의 경우 반응기체가 플라즈마화 되어 반응의 안정성에 나쁜 영향을 주게된다. 또한 반응기체가 스퍼터링 타겟 표면과 반응하여 스퍼터링 속도 및 박막 조성의 균일성이 떨어지게 된다. 그러나, 본 발명에 따른 박막제조장치에 의하면, 반응기체가 존재하는 반응공간과 스퍼터링 증착이 일어나는 스퍼터링 공간을 서로 분리하고 그 사이에 반응기체 및 스퍼터링용 기체를 배출하기 위한 펌핑 공간을 마련함으로써 두 기체의 혼합이 방지된 상태에서 박막을 제조할 수 있게된다. 그리고, 기판이 반응공간과 스퍼터링 공간을 번갈아 왕복할 수 있도록 되어 있기 때문에 증착공정과 반응공정이 연속적으로 이루어질 수 있게 된다. 따라서, 양질의 화합물 박막을 얻을 수 있게 된다. 스퍼터링, 반응성 스퍼터링, 플라즈마, 화합물 박막