출구 재귀 모델을 이용한 웨이퍼 제조 공정 레벨의 포토리소그래피 클러스터 장치 시뮬레이션을 제공하는 시뮬레이션 장치 및 이를 이용한 시뮬레이션 방법AN EXIT RECURSION MODEL OF AN APPARATUS OF CLUSTERED PHOTOLITHOGRAPHY FOR ACHIEVING FAB(WAFER FABRICATION FACILITIES)-LEVEL SIMULATION, AND A METHOD FOR SIMULATING USING IT

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본 발명의 실시 예에 따른 시뮬레이션 장치는 포토리소그래피 클러스터 장치 시뮬레이션을 위한 출구 재귀 모델(EXIT RECURTION MODEL)을 결정하는 장치 모델 결정부; 상기 결정된 출구 재귀 모델에 대응되는 파라미터를 산출하는 파라미터 산출부; 및 상기 산출된 파라미터를 이용하여, 시뮬레이션된 포토리소그래피 클러스터 장치를 구동하는 공정 시뮬레이션부를 포함하여, 웨이퍼 제조 공정(FAB) 레벨의 포토리소그래피 클러스터 장치 시뮬레이션을 제공한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2018-07-31
Application Date
2016-12-29
Application Number
10-2016-0181930
Registration Date
2018-07-31
Registration Number
10-1885619-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/255776
Appears in Collection
IE-Patent(특허)
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