축전 결합 플라즈마 발생 장치 및 축전 결합 플라즈마 발생 방법 Capacitively Coupled Plasma Generation Apparatus and Capacitively Coupled Plasma Generation Method

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본 발명의 축전 결합 플라즈마 발생 장치 및 발생 방법을 제공한다. 이 축전 결합 플라즈마 발생 장치는 구동 주파수를 가지고 주기적인 RF 펄스를 제공하는 RF 전원, RF 전원에 연결된 제1 전극, 및 기판을 장착하고 제1 전극과 대향하여 이격되어 배치된 제2 전극을 포함한다. 제1 전극은 홀들을 포함하는 할로우 케소드 영역을 포함한다. 할로우 케소드 영역은 복수의 서브 할로우 케소드 영역들로 분리된다. 서브 할로우 케소드 영역들은 서로 다른 홀의 형태를 가지고, RF 전원의 펄스의 듀티비(duty ratio)에 따라, 서브 할로우 케소드 영역들의 플라즈마 밀도 분포의 제어가 가능하다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2011-12-06
Application Date
2010-01-14
Application Number
10-2010-0003381
Registration Date
2011-12-06
Registration Number
10-1092881-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/235010
Appears in Collection
PH-Patent(특허)
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