플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치Gas supply enhancement using the shower head and ground shape of the multi-electode

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본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 상판을 포함하는 진공 용기, 상판의 하부에 배치되고 공정 가스를 토출하는 복수의 노즐들을 포함하는 가스 분배부, 가스 분배부의 하부에 배치되고 제1 방향으로 나란히 연장되는 절연 지지부들, 가스 분배부의 하부에 배치되고 상기 제1 방향으로 나란히 연장되는 접지 전극들, 절연지지부의 하부에 배치되고 접지 전극들 사이에서 제1 방향으로 나란히 연장되는 전원 전극들, 및 가스 분배부 및 절연 지지부를 관통하여 전원 전극들에 RF 전력을 공급하는 전력 공급부를 포함한다.
Assignee
주성엔지니어링(주),한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2013-03-19
Application Date
2011-04-08
Application Number
10-2011-0032636
Registration Date
2013-03-19
Registration Number
10-1247103-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/234374
Appears in Collection
PH-Patent(특허)
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