유체의 유동저항을 기반으로 하는 표면 분석 측정 방법을 이용한 원자현미경A atom-microscope using surface analysis measurement based on flowing resistance of fluid

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본 발명의 유체의 유동저항을 기반으로 하는 표면 분석 측정 방법을 이용한 원자현미경은 측정 대상인 시료가 안착되는 스테이지와, 외부에서 제공되는 유체를 중공의 연결부로 안내하여 상기 연결부 끝단부에 장착된 노즐팁을 통해 유체를 미세한 범위로 분사토록 하되, 상기 연결부 외주연에 연결관을 분기시켜 기능성 액체를 공급할 수 있도록 하고, 상기 기능성 액체는 외부에서 제공되는 유체와 합류시켜 노즐팁의 구멍을 통해 시료 표면의 특정 위치에 제한된 범위로 제공하거나, 상기 연결관에 설치한 펌프를 통해 진공압을 발생시켜 노즐팁의 구멍으로 시료의 특정 위치에 존재하는 대상을 흡입력으로 추출할 수 있도록 하는 노즐과, 상기 유체가 시료 표면으로 분사 후 충돌되어 발생하는 유동저항이 시료 표면의 지형에 따라 가변되는데, 이때 변화된 유동저항 값을 센싱하는 압력센서와, 상기 압력센서의 신호를 인가받아 가변되는 유동저항 값을 일정하기 유지시키기 위하여 노즐에서 유체가 분사되는 단부와 시료의 표면 사이 간격의 조절 및 스캐닝 작업을 가능하도록 시료를 안착한 스테이지를 X,Y,Z 방향으로 이동시키는 구동기와, 상기 구동기의 동작 수치를 컴퓨터 화면에 밝기로 나타내 시료의 표면의 형상, 부분의 굴곡도, 단면도, 입체도 및 각종 통계자료를 얻을 수 있도록 하는 출력부로 구성한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2010-04-27
Application Date
2008-11-27
Application Number
10-2008-0119103
Registration Date
2010-04-27
Registration Number
10-0956165-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/229116
Appears in Collection
ME-Patent(특허)
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