3차원 미세패턴 형성장치 Micro patterning equipment of 3-dimension

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본 발명은 3차원 미세패턴 형성장치에 관한 것이다. 본 발명의 장치는 컴퓨터 재생을 통한 홀로그래픽 리소그래피를 이용하는 공간광변조기와 이광자 흡수 폴리머화를 이용한 미세패턴 형성시 이광자 흡수를 일으킬수 있는 펨토초레이저를 발생하여 2차원의 미세패턴을 적층하여 3차원의 미세패턴을 형성한다. 따라서, 본 발명의 장치는 리소그래피를 이용한 미세패턴을 형성함에 있어 마스크제작 비용을 절감하고 마스크 오차에 따른 패턴형성 조정 피드백에 대한 공정 시간을 감소시켜 빠른 시간내에 정확한 3차원의 미세 패턴을 형성할 수 있는 효과를 제공한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2011-02-28
Application Date
2008-05-08
Application Number
10-2008-0042989
Registration Date
2011-02-28
Registration Number
10-1020149-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/228875
Appears in Collection
PH-Patent(특허)
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