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(A) study on the atomic layer deposition mechanism and characteristics of Ti-N,Ti-Si-N films deposited by cycleCVD = Cycle-CVD 법으로 증착된 Ti-N, Ti-Si-N 박막의 ALD 증착기구와 특성에 관한 연구link Min, Jae-Sik; 민재식; et al, 한국과학기술원, 1999 |
(A) study on the plasma-enhanced atomic layer deposition of Ta-N, Ti-N and Ti-Si-N thin films = Ta-N, Ti-N, Ti-Si-N 확산방지막의 플라즈마를 이용한 원자층 증착법에 관한 연구link Park, Jin-Seong; 박진성; et al, 한국과학기술원, 2002 |
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